14 сентября 2017 г.

Samsung укрепляет позиции на рынке полупроводниковых технологий за счёт разработки 11-нм LPP и 7-нм LPP техпроцессов с применением EUV-технологии

Компания Samsung Electronics, мировой лидер в области передовых полупроводниковых технологий, объявила о добавлении 11-нанометрового (нм) техпроцесса FinFET (11LPP, Low Power Plus) со сниженным энергопотреблением в свой портфель литейного производства. Теперь Samsung Electronics предлагает заказчикам еще более широкий спектр возможностей для создания продуктов следующего поколения.

Благодаря дальнейшему масштабированию и совершенствованию технологий, реализованных в рамках разработанного ранее техпроцесса 14LPP (14 нм Low Power Plus), 11LPP обеспечивает повышение производительности решений на 15% и сокращение площади чипа на 10% при сохранении прежнего уровня энергопотребления.

Новое технологическое решение – продолжение 10-нм техпроцесса FinFET для мобильных процессоров для премиальных флагманских смартфонов. Компания ожидает, что ее 11-нм техпроцесс обеспечит дополнительную ценность для смартфонов среднего и высокого класса. Инновационная процессорная технология должна быть готова к запуску в производство в первой половине 2018 года.

Samsung также подтвердила, что разработка 7LPP (7-нм техпроцесса со сниженным энергопотреблением) с технологией литографии EUV (экстремальный ультрафиолет) идет по графику. Её первый запуск в производство состоится во второй половине 2018 года.

С 2014 года Samsung обработала около 200 000 пластин с использованием литографической технологии EUV и, опираясь на свой опыт, недавно увидела значительные результаты в процессе разработки. Это, в частности, достижение 80% уровня выпуска для чипов SRAM объёмом 256 МБ (статическая память с произвольным доступом).

«Samsung добавила 11-нм процесс в нашу дорожную карту, чтобы предложить расширенные возможности для различных приложений, - сказал Райан Ли, вице-президент и глава отдела маркетинга литейной продукции компании Samsung Electronics. - Благодаря этому Samsung завершила разработку комплексной дорожной карты от 14 нм до 11 нм, 10 нм, 8 нм и 7 нм в течение следующих трех лет».

Подробная информация о недавнем обновлении дорожной карты Samsung в сфере литейного производства, включая сведения о доступности техпроцесса 11LPP и разработку 7-нм технологии EUV, будет представлена на форуме Samsung Foundry Forum Japan 15 сентября 2017 года в Токио. Samsung Foundry Forum в начале года прошел в Соединенных Штатах и Южной Корее, и Samsung получила возможность поделиться информацией о передовых процессорных технологиях с глобальными клиентами и партнерами.

Также вам будет интересно